Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica

El óxido de níquel (NiO) tiene una excelente estabilidad química y muestra conductividad tipo p debido a vacantes de Ni y/o intersticiales de O. Por esto, las películas delgadas de este material tienen una gran aplicabilidad tecnológica, como por ejemplo en sensores de gases, en celdas de combustibl...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Sequeira, Karen Melanie, Suárez, Gustavo, Tejerina, Matías Rubén
Formato: Articulo Comunicacion
Lenguaje:Español
Publicado: 2023
Materias:
Ciencias Exactas
semiconductores de capa delgada
envejecimiento de solución
thin-film semiconductors
solution ageing
Acceso en línea:http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157496
Aporte de:
SEDICI (UNLP) de Universidad Nacional de La Plata
id I19-R120-10915-157496
record_format dspace
spelling I19-R120-10915-1574962023-09-11T20:03:19Z http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157496 Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica Growth of thin nickel oxide films by pyrolytic nebulization Sequeira, Karen Melanie Suárez, Gustavo Tejerina, Matías Rubén 2023-06 2023-09-11T18:27:30Z es Ciencias Exactas semiconductores de capa delgada envejecimiento de solución thin-film semiconductors solution ageing El óxido de níquel (NiO) tiene una excelente estabilidad química y muestra conductividad tipo p debido a vacantes de Ni y/o intersticiales de O. Por esto, las películas delgadas de este material tienen una gran aplicabilidad tecnológica, como por ejemplo en sensores de gases, en celdas de combustible y en ventanas inteligentes, entre otras. La técnica de nebulización pirolítica permite fabricar con bajo costo estos materiales. La preparación de la solución a nebulizar determina las características del material a obtener y uno de los aspectos importante a tener en cuenta en este proceso es el tiempo de envejecimiento de esta solución[2]. En este trabajo, se presenta una caracterización de recubrimientos de NiO fabricados a partir de soluciones con distinto tiempo de envejecimiento. Facultad de Ciencias Agrarias y Forestales Articulo Comunicacion http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International (CC BY-NC-SA 4.0) application/pdf 57-57
institution Universidad Nacional de La Plata
institution_str I-19
repository_str R-120
collection SEDICI (UNLP)
language Español
topic Ciencias Exactas
semiconductores de capa delgada
envejecimiento de solución
thin-film semiconductors
solution ageing
spellingShingle Ciencias Exactas
semiconductores de capa delgada
envejecimiento de solución
thin-film semiconductors
solution ageing
Sequeira, Karen Melanie
Suárez, Gustavo
Tejerina, Matías Rubén
Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
topic_facet Ciencias Exactas
semiconductores de capa delgada
envejecimiento de solución
thin-film semiconductors
solution ageing
description El óxido de níquel (NiO) tiene una excelente estabilidad química y muestra conductividad tipo p debido a vacantes de Ni y/o intersticiales de O. Por esto, las películas delgadas de este material tienen una gran aplicabilidad tecnológica, como por ejemplo en sensores de gases, en celdas de combustible y en ventanas inteligentes, entre otras. La técnica de nebulización pirolítica permite fabricar con bajo costo estos materiales. La preparación de la solución a nebulizar determina las características del material a obtener y uno de los aspectos importante a tener en cuenta en este proceso es el tiempo de envejecimiento de esta solución[2]. En este trabajo, se presenta una caracterización de recubrimientos de NiO fabricados a partir de soluciones con distinto tiempo de envejecimiento.
format Articulo
Comunicacion
author Sequeira, Karen Melanie
Suárez, Gustavo
Tejerina, Matías Rubén
author_facet Sequeira, Karen Melanie
Suárez, Gustavo
Tejerina, Matías Rubén
author_sort Sequeira, Karen Melanie
title Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
title_short Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
title_full Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
title_fullStr Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
title_full_unstemmed Crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
title_sort crecimiento de films de óxido de níquel por nebulización pirolítica
publishDate 2023
url http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157496
work_keys_str_mv AT sequeirakarenmelanie crecimientodefilmsdeoxidodeniquelpornebulizacionpirolitica
AT suarezgustavo crecimientodefilmsdeoxidodeniquelpornebulizacionpirolitica
AT tejerinamatiasruben crecimientodefilmsdeoxidodeniquelpornebulizacionpirolitica
AT sequeirakarenmelanie growthofthinnickeloxidefilmsbypyrolyticnebulization
AT suarezgustavo growthofthinnickeloxidefilmsbypyrolyticnebulization
AT tejerinamatiasruben growthofthinnickeloxidefilmsbypyrolyticnebulization
_version_ 1807221242861715456

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