Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃

En este trabajo estudiamos el intercambio de impurezas donoras Hf en sitios sustitucionales de catión del semiconductor de ancho gap C-Tm₂O₃. El proceso de dopaje se realizó por reacción en fase sólida, asistida por molido mecánico, de m-HfO₂ (activado por irradiación neutrónica) y de C-Tm₂O₃. Atomo...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Darriba, Germán Nicolás, Errico, Leonardo Antonio, Rentería, Mario
Formato: Articulo
Lenguaje:Español
Publicado: 2003
Materias:
Acceso en línea:http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/129501
Aporte de:
id I19-R120-10915-129501
record_format dspace
institution Universidad Nacional de La Plata
institution_str I-19
repository_str R-120
collection SEDICI (UNLP)
language Español
topic Física
Intercambio de impurezas donoras Hf
Sitios sustitucionales de catión
spellingShingle Física
Intercambio de impurezas donoras Hf
Sitios sustitucionales de catión
Darriba, Germán Nicolás
Errico, Leonardo Antonio
Rentería, Mario
Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
topic_facet Física
Intercambio de impurezas donoras Hf
Sitios sustitucionales de catión
description En este trabajo estudiamos el intercambio de impurezas donoras Hf en sitios sustitucionales de catión del semiconductor de ancho gap C-Tm₂O₃. El proceso de dopaje se realizó por reacción en fase sólida, asistida por molido mecánico, de m-HfO₂ (activado por irradiación neutrónica) y de C-Tm₂O₃. Atomos <sup>181</sup>Ta, obtenidos en el decaimiento (β‘ del <sup>181</sup>Hf (indistinguible de los átomos de Hf inactivos desde el punto de vista del intercambio iónico), fueron utilizados como sondas en los experimentos de Correlaciones Angulares Perturbadas Diferenciales en Tiempo realizados luego de cada etapa del proceso de dopaje. Las interacciones hiperfmas medidas en sitios <sup>181</sup>Ta permitieron la caracterización del gradiente de campo eléctrico (GCE) en sitios representativos de la localización del Hf en cada etapa del proceso. La eficiencia y el carácter sustitucional del proceso de intercambio es discutido y demostrado a la luz de una sistemática establecida para GCEs en óxidos de tierras raras isoestructurales (bixbitas).
format Articulo
Articulo
author Darriba, Germán Nicolás
Errico, Leonardo Antonio
Rentería, Mario
author_facet Darriba, Germán Nicolás
Errico, Leonardo Antonio
Rentería, Mario
author_sort Darriba, Germán Nicolás
title Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
title_short Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
title_full Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
title_fullStr Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
title_full_unstemmed Intercambio por reacción en fase sólida de impurezas Hf en sitios de catión del semiconductor de ancho Gap C-Tm₂O₃
title_sort intercambio por reacción en fase sólida de impurezas hf en sitios de catión del semiconductor de ancho gap c-tm₂o₃
publishDate 2003
url http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/129501
work_keys_str_mv AT darribagermannicolas intercambioporreaccionenfasesolidadeimpurezashfensitiosdecationdelsemiconductordeanchogapctm2o3
AT erricoleonardoantonio intercambioporreaccionenfasesolidadeimpurezashfensitiosdecationdelsemiconductordeanchogapctm2o3
AT renteriamario intercambioporreaccionenfasesolidadeimpurezashfensitiosdecationdelsemiconductordeanchogapctm2o3
bdutipo_str Repositorios
_version_ 1764820452574756867