Electrodeposición de cinc en soluciones de cloruros y sulfatos
El objetivo de este capítulo es analizar la influencia de estos aniones en la electrodeposición voltamétrica de cinc a partir de soluciones de cloruros y de sulfatos. Las soluciones de estudio de (NH4Cl 1.6 M + ZnCl2 0,3M) y de (NH4)2SO4 1,3 M + ZnSO 4 0,3M) se prepararon a fuerza iónica I = 2,5 M y...
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2016
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todo:technicalreport_n000152023-10-03T16:51:02Z Electrodeposición de cinc en soluciones de cloruros y sulfatos Mahmud, Z. Gordillo, G. Electrodeposición de Cinc Sulfatos Análisis Superficial XPS El objetivo de este capítulo es analizar la influencia de estos aniones en la electrodeposición voltamétrica de cinc a partir de soluciones de cloruros y de sulfatos. Las soluciones de estudio de (NH4Cl 1.6 M + ZnCl2 0,3M) y de (NH4)2SO4 1,3 M + ZnSO 4 0,3M) se prepararon a fuerza iónica I = 2,5 M y pH = 4 ajustado con soluciones de sulfato de amonio diluído. Por otra parte, se analizan las posibles reacciones de superficie que ocurren durante la deposición de cinc en éstas soluciones, mediante la técnica de XPS “X ray Photoelectron Spectroscopy”, que permite reconocer elementos y su entorno en pocas monocapas en una profundidad de 20 - 30 Å Fil: Mahmud, Z. Instituto Nacional de Tecnología Industrial. Procesos Superficiales; Argentina. Fil: Gordillo, G. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. Departamento de Química Inorgánica, Analítica y Química Física; Argentina. 2016-10 Informe Técnico application/pdf Español info:eu-repo/semantics/openAccess http://creativecommons.org/licenses/by/2.5/ar http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00015 |
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El objetivo de este capítulo es analizar la influencia de estos aniones en la electrodeposición voltamétrica de cinc a partir de soluciones de cloruros y de sulfatos. Las soluciones de estudio de (NH4Cl 1.6 M + ZnCl2 0,3M) y de (NH4)2SO4 1,3 M + ZnSO 4 0,3M) se prepararon a fuerza iónica I = 2,5 M y pH = 4 ajustado con soluciones de sulfato de amonio diluído. Por otra parte, se analizan las posibles reacciones de superficie que ocurren durante la deposición de cinc en éstas soluciones, mediante la técnica de XPS “X ray Photoelectron Spectroscopy”, que permite reconocer elementos y su entorno en pocas monocapas en una profundidad de 20 - 30 Å |
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