Crecimiento de películas ultra-delgadas de aisladores sobre una superficie metálica : AlF3 sobre Cu(100)

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En este trabajo caracterizamos el crecimiento de películas de fluoruro de aluminio (AlF3) sobre Cu(100) mediante la técnica de microscopía túnel de barrido (STM). Las imágenes túnel muestran que a medida que van creciendo en tamaño las islas de fluoruro de aluminio, éstas experimentan una transición...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Moreno López, J. C., Ruano, G., Vidal, R. A., Passeggi, M. C. G., Ferron, Julio
Lenguaje:Español
Publicado: 2009
Materias:
FLUORURO DE ALUMINIO
COBRE
CRECIMIENTO DE PELICULAS ULTRA DELGADAS
STM
ALUMINIUM FLUORIDE
COPPER
ULTRA THIN FILMS GROWTH
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v21_n01_p230
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
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