Estudio comparativo de la evolución de fases en polvos y películas de HfO2- Y2O3
Películas y polvos con composiciones en el sistema HfO2–Y2O3 fueron preparados por técnica de CSD (Chemical Solution Deposition). Los reactivos de partida fueron Hafnium n-Butoxide e Ytrium Acetate, que fueron disueltos en soluciones n-butanol para obtener soluciones precursoras de HfO2–2.5 mol% Y2O...
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2006
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todo:afa_v18_n01_p1882023-10-03T13:23:00Z Estudio comparativo de la evolución de fases en polvos y películas de HfO2- Y2O3 HfO2- Y2O3 powder and films analysis of phases evolution Balbi, Marcela Angela Barolin, Sebastián Andrés Giannone, María Laura Caracoche, María Cristina Pasquevich, Alberto Felipe Marinez, J. A. Taylor, M. A. Rivas, P. C. Sanctis, Oscar Alberto de HFO2–Y2O3 POLVOS PELICULAS FASES HFO2–Y2O3 POWDERS FILMS PHASES Películas y polvos con composiciones en el sistema HfO2–Y2O3 fueron preparados por técnica de CSD (Chemical Solution Deposition). Los reactivos de partida fueron Hafnium n-Butoxide e Ytrium Acetate, que fueron disueltos en soluciones n-butanol para obtener soluciones precursoras de HfO2–2.5 mol% Y2O3, HfO2– 10 mol% Y2O3, HfO2–12 mol% Y2O3. Las películas se prepararon mediante la técnica de Dip-Coating sobre sustrato de alúmina a temperatura ambiente y atmósfera normal. Se obtuvieron polvos por evaporación del solvente a temperatura ambiente a una presión de 30 Torr y posterior calentamiento a 200°C. por 1 hora en atmósfera normal. Las películas fueron tratadas térmicamente a temperaturas entre 500°C y 1300°C. Mediante difractometría de haz rasante GI-XRD se estudió la evolución de las fases en las películas (ensayo ex situ). En cambio, la evolución de las fases en los polvos, que se presentan durante la formación del material debido al tratamiento térmico, fue estudiado in situ mediante Difractometría de Rayos X en cámara de calentamiento desde 200°C hasta 1200°C. Además, mediante análisis térmico DTA se estudió la evolución térmica del material entre temperatura ambiente y 1200°C HfO2–Y2O3 powder and coatings were synthesized by Chemical Solution Deposition (CSD). The starting materials were Hafnium n-Butoxide and Ytrium Acetate and n-butanol as olvent. The solutions were precursors of powders and films with HfO2–2.5 mol% Y2O3, HfO2–10 mol% Y2O3, HfO2–12 mol% Y2O3 compositions. Films were deposited onto alumina substrates by Dip Coating technique. The powders were obtained by low vacuum solvent evaporation and drying. By means DTA-TG, in-situ High Temperature X-ray Diffraction and Grazing Incidence X-ray Diffraction the phases evolution were studied Fil: Balbi, Marcela Angela. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Barolin, Sebastián Andrés. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Giannone, María Laura. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Caracoche, María Cristina. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Pasquevich, Alberto Felipe. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Marinez, J. A.. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Taylor, M. A.. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Rivas, P. C.. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina Fil: Sanctis, Oscar Alberto de. Universidad Nacional de Rosario. Facultad de Ciencias Exactas, Ingeniería y Agrimensura (UNR-FCEIA). Santa Fe. Argentina 2006 PDF Español info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v18_n01_p188 |
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Películas y polvos con composiciones en el sistema HfO2–Y2O3 fueron preparados por técnica de CSD (Chemical Solution Deposition). Los reactivos de partida fueron Hafnium n-Butoxide e Ytrium Acetate, que fueron disueltos en soluciones n-butanol para obtener soluciones precursoras de HfO2–2.5 mol% Y2O3, HfO2– 10 mol% Y2O3, HfO2–12 mol% Y2O3. Las películas se prepararon mediante la técnica de Dip-Coating sobre sustrato de alúmina a temperatura ambiente y atmósfera normal. Se obtuvieron polvos por evaporación del solvente a temperatura ambiente a una presión de 30 Torr y posterior calentamiento a 200°C. por 1 hora en atmósfera normal. Las películas fueron tratadas térmicamente a temperaturas entre 500°C y 1300°C. Mediante difractometría de haz rasante GI-XRD se estudió la evolución de las fases en las películas (ensayo ex situ). En cambio, la evolución de las fases en los polvos, que se presentan durante la formación del material debido al tratamiento térmico, fue estudiado in situ mediante Difractometría de Rayos X en cámara de calentamiento desde 200°C hasta 1200°C. Además, mediante análisis térmico DTA se estudió la evolución térmica del material entre temperatura ambiente y 1200°C |
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