Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx

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Se investigaron las propiedades eléctricas y el factor extensométrico de películas del cermet Cr/SiOx en composiciones 50/50 y 70/30 % en peso, para evaluar su uso en dispositivos "strain gauge". Las películas fueron depositadas por evaporación "flash". Las estructuras y fases re...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Pascuet, María Inés Magdalena, Broitman, Esteban Daniel, Alonso, P. J., Aragón, Ricardo, Zimmerman, R.
Lenguaje:Español
Publicado: 1995
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p137
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
id todo:afa_v07_n01_p137
record_format dspace
spelling todo:afa_v07_n01_p1372023-10-03T13:22:16Z Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx Pascuet, María Inés Magdalena Broitman, Esteban Daniel Alonso, P. J. Aragón, Ricardo Zimmerman, R. Se investigaron las propiedades eléctricas y el factor extensométrico de películas del cermet Cr/SiOx en composiciones 50/50 y 70/30 % en peso, para evaluar su uso en dispositivos "strain gauge". Las películas fueron depositadas por evaporación "flash". Las estructuras y fases resultantes fueron caracterizadas por microscopía y difracción de electrones. Se estudió la influencia del espesor y la velocidad del depósito sobre la resistencia laminar, el coeficiente térmico de resistencia y el factor extensométrico. Los resultados son consistentes con un mecanismo de conducción mixto, con una componente metálica y otra por efecto túnel termicamente activado, entre fases conductoras interconectadas y discretas, respectivamente The electrical properties and gauge factor of Cr/SiOx cermet thin films in 50/50 and 70/30 w% composition were evaluated for possible application in "strain gauge" devices. Flash evaporation was employed and the resulting structure and phases were characterized by electron microscopy and diffraction. The influence of thickness and deposition rate on sheet resistance, TCR and gauge factor were investigated. The results are consistent with a mixed conduction mechanism with metallic and thermally activated tunnelling components, between interconnected and conductiving phases, respectively Fil: Pascuet, María Inés Magdalena. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Broitman, Esteban Daniel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Alonso, P. J.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Aragón, Ricardo. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Zimmerman, R.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina 1995 PDF Español info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p137
institution Universidad de Buenos Aires
institution_str I-28
repository_str R-134
collection Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA)
language Español
orig_language_str_mv Español
description Se investigaron las propiedades eléctricas y el factor extensométrico de películas del cermet Cr/SiOx en composiciones 50/50 y 70/30 % en peso, para evaluar su uso en dispositivos "strain gauge". Las películas fueron depositadas por evaporación "flash". Las estructuras y fases resultantes fueron caracterizadas por microscopía y difracción de electrones. Se estudió la influencia del espesor y la velocidad del depósito sobre la resistencia laminar, el coeficiente térmico de resistencia y el factor extensométrico. Los resultados son consistentes con un mecanismo de conducción mixto, con una componente metálica y otra por efecto túnel termicamente activado, entre fases conductoras interconectadas y discretas, respectivamente
author Pascuet, María Inés Magdalena
Broitman, Esteban Daniel
Alonso, P. J.
Aragón, Ricardo
Zimmerman, R.
spellingShingle Pascuet, María Inés Magdalena
Broitman, Esteban Daniel
Alonso, P. J.
Aragón, Ricardo
Zimmerman, R.
Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
author_facet Pascuet, María Inés Magdalena
Broitman, Esteban Daniel
Alonso, P. J.
Aragón, Ricardo
Zimmerman, R.
author_sort Pascuet, María Inés Magdalena
title Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
title_short Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
title_full Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
title_fullStr Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
title_full_unstemmed Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx
title_sort respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet cr-siox
publishDate 1995
url https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p137
work_keys_str_mv AT pascuetmariainesmagdalena respuestaelectricaalasdeformacionesmecanicasenpeliculasdelgadasdelcermetcrsiox
AT broitmanestebandaniel respuestaelectricaalasdeformacionesmecanicasenpeliculasdelgadasdelcermetcrsiox
AT alonsopj respuestaelectricaalasdeformacionesmecanicasenpeliculasdelgadasdelcermetcrsiox
AT aragonricardo respuestaelectricaalasdeformacionesmecanicasenpeliculasdelgadasdelcermetcrsiox
AT zimmermanr respuestaelectricaalasdeformacionesmecanicasenpeliculasdelgadasdelcermetcrsiox
_version_ 1807322259519438848

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