Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx

Se investigaron las propiedades eléctricas y el factor extensométrico de películas del cermet Cr/SiOx en composiciones 50/50 y 70/30 % en peso, para evaluar su uso en dispositivos "strain gauge". Las películas fueron depositadas por evaporación "flash". Las estructuras y fases re...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Pascuet, María Inés Magdalena, Broitman, Esteban Daniel, Alonso, P. J., Aragón, Ricardo, Zimmerman, Rosa
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 1995
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p137
Aporte de:
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spelling afa:afa_v07_n01_p1372025-03-11T11:27:56Z Respuesta eléctrica a las deformaciones mecánicas en películas delgadas del cermet Cr-SiOx An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 1995;01(07):137-140 Pascuet, María Inés Magdalena Broitman, Esteban Daniel Alonso, P. J. Aragón, Ricardo Zimmerman, Rosa Se investigaron las propiedades eléctricas y el factor extensométrico de películas del cermet Cr/SiOx en composiciones 50/50 y 70/30 % en peso, para evaluar su uso en dispositivos "strain gauge". Las películas fueron depositadas por evaporación "flash". Las estructuras y fases resultantes fueron caracterizadas por microscopía y difracción de electrones. Se estudió la influencia del espesor y la velocidad del depósito sobre la resistencia laminar, el coeficiente térmico de resistencia y el factor extensométrico. Los resultados son consistentes con un mecanismo de conducción mixto, con una componente metálica y otra por efecto túnel termicamente activado, entre fases conductoras interconectadas y discretas, respectivamente The electrical properties and gauge factor of Cr/SiOx cermet thin films in 50/50 and 70/30 w% composition were evaluated for possible application in "strain gauge" devices. Flash evaporation was employed and the resulting structure and phases were characterized by electron microscopy and diffraction. The influence of thickness and deposition rate on sheet resistance, TCR and gauge factor were investigated. The results are consistent with a mixed conduction mechanism with metallic and thermally activated tunnelling components, between interconnected and conductiving phases, respectively Fil: Pascuet, María Inés Magdalena. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Broitman, Esteban Daniel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Alonso, P. J.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Aragón, Ricardo. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Fil: Zimmerman, Rosa. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física (UBA-FI). Laboratorio de Películas Delgadas. Buenos Aires. Argentina Asociación Física Argentina 1995 info:ar-repo/semantics/artículo info:eu-repo/semantics/article info:eu-repo/semantics/publishedVersion application/pdf spa info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v07_n01_p137
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