Estudio por microscopía de fuerza atómica de películas delgadas depositadas por PVD (physical vapor deposition) sobre Si (100)

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Corengia, Pablo, Ybarra, Gabriel, Mendive, Damián, Egidi, Daniel, Fraigi, Liliana, Quinteiro, Mario, Moina, Carlos, Centro de Investigación y Desarrollo en Mecánica. INTI-Mecánica. Buenos Aires, AR, Centro de Investigación y Desarrollo en Electrodeposición y Procesos Superficiales. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR, Centro de Investigación y Desarrollo en Telecomunicaciones, Electrónica e Informática. INTI-Electrónica e Informática. Buenos Aires, AR, Jornadas de desarrollo e innovación, 3
Formato: conferenceObject
Lenguaje:Español
Publicado: INTI-Mecánica 2000
Materias:
Películas delgadas
Microscopía
Deposición
Topografía
Rugosidad de superficies
Acceso en línea:http://www-biblio.inti.gob.ar:80/gsdl/collect/inti/index/assoc/HASH74ed.dir/doc.pdf
Aporte de:
Repositorio Institucional del Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI) de INTI
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Jornadas de desarrollo e innovación, 3
Estudio por microscopía de fuerza atómica de películas delgadas depositadas por PVD (physical vapor deposition) sobre Si (100)
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