Real, M., Tonina, A., Elmquist, R., Lass, E., Liu, F., Soons, J., . . . TecnoINTI edición 2013. Jornadas Abiertas de Desarrollo, I. y. T. T. (2013). Crecimiento epitaxial de grafeno en SiC(0001) para su aplicación como resistencia estándar. INTI.
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Cita MLA (8a ed.)Real, M.A, et al. Crecimiento Epitaxial De Grafeno En SiC(0001) Para Su Aplicación Como Resistencia Estándar. INTI, 2013.