Efecto del Aditivo Tiourea utilizado en el proceso de la Electrodeposición de cinc en medio ácido.
Guardado en:
| Autores principales: | Mahmud, Zulema Ángela, Gordillo, Gabriel, D´Alkaine, Carlos V., Instituto Nacional de Tecnología Industrial. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR, Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. FCEN-UBA. Buenos Aires, AR, Universidade Federal de Sao Carlos. UFSCar. São Paulo, BR |
|---|---|
| Formato: | article |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2015
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://www-biblio.inti.gob.ar:80/gsdl/collect/inti/index/assoc/HASH657e/4ca0edcf.dir/doc.pdf |
| Aporte de: |
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