Mahmud, Z. Á., Gordillo, G., D´Alkaine, C. V., Instituto Nacional de Tecnología Industrial. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, A., Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. FCEN-UBA. Buenos Aires, A., & Universidade Federal de Sao Carlos. UFSCar. São Paulo, B. (2015). Efecto del Aditivo Tiourea utilizado en el proceso de la Electrodeposición de cinc en medio ácido.
Cita Chicago Style (17a ed.)Mahmud, Zulema Ángela, Gabriel Gordillo, Carlos V. D´Alkaine, AR Instituto Nacional de Tecnología Industrial. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. FCEN-UBA. Buenos Aires, y BR Universidade Federal de Sao Carlos. UFSCar. São Paulo. Efecto Del Aditivo Tiourea Utilizado En El Proceso De La Electrodeposición De Cinc En Medio ácido. 2015.
Cita MLA (8a ed.)Mahmud, Zulema Ángela, et al. Efecto Del Aditivo Tiourea Utilizado En El Proceso De La Electrodeposición De Cinc En Medio ácido. 2015.