Electrodeposición de cinc en medio ácido: Influencia de aniones y aditivos

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Mahmud, Z.A., Gordillo, G., Dalkaine, C.V., INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR, Facultad de Ciencias Exactas y Naturales. DQIAQF-UBA. Buenos Aires, AR, Universidad Federal de Sao Carlos. UFSCar. Sâo Pablo, Brasil, Jornadas de desarrollo e innovación tecnológica, 5, Investigación aplicada, procesos, autogenerado
Formato: conferenceObject
Lenguaje:Español
Publicado: INTI 2004
Materias:
Electrodeposición
Cinc
Acidos
Aniones
Aditivos
Nucleación
Cationes
Acceso en línea:http://www-biblio.inti.gob.ar:80/gsdl/collect/inti/index/assoc/HASH32a0/1234a40f.dir/doc.pdf
Aporte de:
Repositorio Institucional del Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI) de INTI
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