Nucleation and growth mechanisms in Cu-Co films

El presente artículo es la versión aceptada para su publicación en la revista, que tiene su correspondencia con la versión publicada formalmente y también con una corrección posterior al artículo. Los enlaces a la versión publicada y a la posterior corrección pueden verse en la vista completa de ést...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Aguirre, María del Carmen, Núñez Coavas, Henry, Fabietti, Luis María Rodolfo, Urreta, Silvia Elena
Formato: acceptedVersion article
Lenguaje:Inglés
Publicado: 2023
Materias:
Nucleation and growth mechanism
2D and 3D mechanism
Cu-Co Films
Soft ferromagnetic
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/11086/549200
Aporte de:
Repositorio Digital Universitario (UNC) de Universidad Nacional de Córdoba
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description El presente artículo es la versión aceptada para su publicación en la revista, que tiene su correspondencia con la versión publicada formalmente y también con una corrección posterior al artículo. Los enlaces a la versión publicada y a la posterior corrección pueden verse en la vista completa de éste registro y aquí mismo. https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.jpcc.6b04994 https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.jpcc.7b10414
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Nucleation and growth mechanisms in Co, Cu, and CoxCu100-x single films, and in CoxCu100-x/Cu bilayers, electrodeposited on Cu70Zn30 brass substrates, are studied by the constant potential technique. The recorded current-time transients (CTTs) are rather complex, and they extend for long times. Co, Cu, and CoxCu100-x alloys electrocrystallize onto brass, undergoing a process with more than a single maximum during the CTTs, as if two or more consecutive nucleation steps were present. The first stage of electrocrystallization in Co and CoxCu100-x films involves 3D instantaneous nucleation, but then, at long times, a progressive nucleation regime predominates. CTTs in Cu/brass and in Cu/CoxCu100-x/brass bilayers are well fitted by a 2DP progressive nucleation process at the initial stage, while for longer growing times a transition to a 3DP regime is observed, in which film growth becomes controlled by adatoms incorporation to the lattice. Film morphologies observed by SEM are consistent with these growth mechanisms. XRD results indicate that pure Co layers are hcp phase, while Cu and Cu-Co layers have an fcc lattice. Films are soft ferromagnetic, with an "in-plane" magnetization easy axis; there is evidence of crystallographic texture, which should be responsible for the higher coercivity observed in the "out-of-plane" configuration, with the applied field perpendicular to the film plane. http://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.jpcc.6b04994 info:eu-repo/semantics/acceptedVersion Fil: Aguirre, María del Carmen. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía, Física y Computación; Argentina. Fil: Aguirre, María del Carmen. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Aguirre, María del Carmen. Universidad Nacional de Córdoba. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Núñez Coavas, Henry. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía, Física y Computación; Argentina. Fil: Fabietti, Luis María Rodolfo. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía, Física y Computación; Argentina. Fil: Fabietti, Luis María Rodolfo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Fabietti, Luis María Rodolfo. Universidad Nacional de Córdoba. Instituto de Física Enrique Gaviola; Argentina. Fil: Urreta, Silvia Elena. Universidad Nacional de Córdoba. Facultad de Matemática, Astronomía, Física y Computación; Argentina. Físico-Química, Ciencia de los Polímeros, Electroquímica 2023-09-27T20:32:22Z 2023-09-27T20:32:22Z 2016 article De ésta versión: Aguirre, María del Carmen; Núñez Coavas, Henry; Fabietti, Luis Maria Rodolfo; Urreta, Silvia Elena; Nucleation and growth mechanisms in Cu-Co films; American Chemical Society; Journal of Physical Chemistry C; 120; 39; 10-2016; 22142-22154 [versión aceptada] http://hdl.handle.net/11086/549200 http://hdl.handle.net/11086/549200 eng De la versión publicada: DOI https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.6b04994 Correction to “Nucleation and Growth Mechanisms in Cu–Co Films” https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.jpcc.7b10414 Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/ Impreso; Electrónico y/o Digital ISSN 1932-7447 eISSN 1932-7455

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