Depósito y caracterización de películas de ZnO:Al como capa antirreflectiva para su aplicación en celdas solares de silicio policristalino

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En este trabajo se presentan los resultados del depósito de ZnO:Al sobre vidrio, por pulverizado catódico de RF. Se varió la temperatura, presión y potencia de RF con la finalidad de obtener las características electro-ópticas adecuadas para ser usado como película antirreflectante en celdas solares...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Mora, F. (Autor, autor), Buitrago, Román Horacio (autor), Urteaga, R. (autor), Juárez, H. (autor), Díaz, Tomás (autor)
Formato: Capítulo de libro
Lenguaje:Español
Publicado: Villa Martelli, Buenos Aires : Asociación Física Argentina, 2010
Materias:
OXIDO DE ZINC
ANTIRREFLECTANTE
TEXTURA
CRISTALIZACION
SILICIO POLICRISTALINO
Acceso en línea:Registro en la Biblioteca Digital
PDF
Handle
DOI
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Biblioteca Central Dr. Luis F. Leloir (FCEN) de Universidad de Buenos Aires

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