Optical and interferometric lithography.

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Brueck, S.R.J
Formato: Artículo
Lenguaje:Inglés
Publicado: New York, NY Institute of Electrical and Electronics Engineers
Materias:
LITOGRAFIA INTERFEROMETRICA
METAMATERIALES
NANOFLUIDICA
NANOFOTONICA
NANOMAGNETISMO
NANOTECNOLOGIA
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Biblioteca E.A. Barbagelata (FI-UNER) de Universidad Nacional de Entre Ríos
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