Influencia de los aditivos utilizados en el cincado en medio ácido

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En principio y a la luz de todo lo que se conoce sobre la deposición metálica (capítulo 1), de la teoría en general sobre el cincado y sobre los aditivos (capítulo 2) se estudian en la tesis los problemas que a nuestro entenderresultaron ser relevantes. Uno de los problemas es la reproducibilidad en...

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Mahmud, Zulema Ángela
Otros Autores: Gordillo, Gabriel
Formato: Tesis doctoral publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales 2010
Materias:
ELECTRODEPOSICION
CONDICION INICIAL
CINC
ADITIVOS
TIOUREA
TEXTURA
MORFOLOGIA
ELECTRODEPOSITION
INICIAL STAGES
ZINC PLATING
ADDITIVES
THIOUREA
TEXTURE
MORPHOLOGY
ADSORPTION
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/tesis_n4634_Mahmud
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
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Mahmud, Zulema Ángela
Influencia de los aditivos utilizados en el cincado en medio ácido
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description En principio y a la luz de todo lo que se conoce sobre la deposición metálica (capítulo 1), de la teoría en general sobre el cincado y sobre los aditivos (capítulo 2) se estudian en la tesis los problemas que a nuestro entenderresultaron ser relevantes. Uno de los problemas es la reproducibilidad en lasmediciones. De ahí, la importancia de tratar el problema del “El Estadoinicial” que consiste en la elección del potencial de inicio de las experiencias,para lograr reproducibilidad en la voltametría. Ese potencial, estárelacionado con el potencial a circuito abierto, ECA, ambos característicosdel sistema en estudio. Se investiga la posible formación de óxidos en elpotencial inicial durante el acondicionamiento del electrodo en Ei, paraentender su incidencia en el proceso de electrodeposición. Se analiza el mecanismo por el cual actúan los aniones cloruro, sulfato y eladitivo tiourea, en el estado inicial como en la electrodeposición. Para una mejor comprensión de cada uno de los problemas, se emplean lastécnicas transientes como la cronoamperometría, la voltametría catódica, lavoltametría de redisolución, la voltametría de onda cuadrada y por último yaparte se estudian las galvanostáticas (en distintas zonas de corrientes). Ésta es una técnica que es necesario considerarla especialmente, porque seusa en la industria. Se analiza la deposición voltamétrica de mezclas 1:1 decloruros y sulfatos. Así como también, con el objetivo de comparar laseficiencias de deposición de cinc en medio de cloruros y de sulfatos, serecurre a la disolución voltamétrica del depósito. Asimismo, se han utilizadootras técnicas de análisis superficiales, la Microscopía Electrónica de barrido,la técnica de análisis superficial denominada XPS y la Difracción de rayos Xpara el análisis de texturas de cincados obtenidos en presencia y ausenciade tiourea. Finalmente, teniendo en cuenta las experiencias de la tesis y delo que se sabe de la bibliografía, se consideran los problemas que aúnquedan por resolver en el área.
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