SIM.EM – S9b, 1 Ω and 10 kΩ : 2012 Resistance Bilateral Comparison between SIM/COOMET Laboratories. Comparison of Resistance Standards at 1 Ω and 10 kΩ between INIMET (Cuba) and INTI (Argentina)

Mostrar todas las versiones(2)
Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Tonina, A., Currás, M., Navarro, M.
Formato: article
Lenguaje:Inglés
Publicado: IOP Publishing 2014
Materias:
Sistema Interamericano de Metrología
Metrología
Calibración
Patrones
Comparadores
Resistores
Acceso en línea:http://www-biblio.inti.gob.ar:80/gsdl/collect/inti/index/assoc/HASH0117/a1d103de.dir/doc.pdf
Aporte de:
Repositorio Institucional del Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI) de Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI)
Descripción
Descripción no disponible.

Ejemplares similares