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National Institute of Standards and Technology. NIST. Gaithersburg. New York, US
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Crecimiento epitaxial de grafeno en SiC(0001) para su aplicación como resistencia estándar
por
Real, Mariano
,
Tonina, A.
,
Elmquist, Randolph E.
,
Lass, Eric A.
,
Liu, Fan-Hung
,
Soons, Johannes A.
,
INTI-Física y Metrología. Buenos Aires, AR
,
National
Institute
of
Standards
and
Technology
.
NIST
.
Gaithersburg
.
New
York
,
US
,
TecnoINTI 2013
Publicado 2013
Aportado por:
Repositorio Institucional del Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI)
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