Estudio por microscopía de fuerza atómica de películas delgadas depositadas por PVD (physical vapor deposition) sobre Si (100)

por Corengia, Pablo, Ybarra, Gabriel, Mendive, Damián, Egidi, Daniel, Fraigi, Liliana, Quinteiro, Mario, Moina, Carlos, Centro de Investigación y Desarrollo en Mecánica. INTI-Mecánica. Buenos Aires, AR, Centro de Investigación y Desarrollo en Electrodeposición y Procesos Superficiales. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR, Centro de Investigación y Desarrollo en Telecomunicaciones, Electrónica e Informática. INTI-Electrónica e Informática. Buenos Aires, AR, Jornadas de desarrollo e innovación, 3
Publicado 2000